Stage-M2 Développement de modèles de lithographie 3D pour des applications opto-électroniques H/F
Développement de modèles de lithographie 3D pour des applications opto-électroniques
La Direction de la Recherche Technologique, qui sommes-nous ?
Le CEA agit comme un accélérateur d'innovation au service de l'industrie pour tous les secteurs d'activités, répondant ainsi aux enjeux liés à notre santé, notre sécurité, nos technologies d'information, notre avenir énergétique.
Nous vous proposons d’intégrer le département technologie silicium, dans le cadre d’un stage.
Avec l’avancement des technologies optoélectroniques, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont de plus en plus demandées par les clients industriels. La lithographie « grayscale » avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. La maîtrise de cette technologie nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancé pour prédire le dessin du masque optique utilisé. Le stage permettra d’optimiser et calibrer un modèle grayscale pour un système d’exposition d’UV profond 248nm.
Métrologie AFM, Profilomètre, Python, S-litho
Qu’attendons-nous de vous?
Vous préparez un diplôme de niveau M2/Ingénieur dans le domaine Microélectronique / Physique / Optique / Matériaux.
Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes handicapées, cet emploi est ouvert à toutes et à tous. Le CEA propose des aménagements et/ou des possibilités d'organisation pour l’inclusion des travailleurs handicapés.
France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)
Microélectronique / Physique / Optique / Matériaux