Postdoc (H/F) en Développement de procédés de gravure plasma pour la fabrication d’une nouvelle[...]

Postdoc (H/F) en Développement de procédés de gravure plasma pour la fabrication d’une nouvelle architecture

Veuillez pour partager sur Facebook, Twitter et LinkedIn.

• Employeur : Centre national de la recherche scientifique (CNRS)

Nature de l’emploi : Emploi ouvert uniquement aux contractuels
Rémunération : (fourchette indicative pour les contractuels) Entre 2991€ et 3417€ brut/an

Missions :

Ce travail s'inscrit dans le cadre du projet ANR NOBEL de l’AAPG 2023 qui rassemble 4 partenaires : le LTM/CNRS, le pheliqs/CEA, l’institut Néel/CNRS et le CREAH/CNRS. La finalité du projet est la fabrication de sources bétavoltaiques en utilisant une nouvelle architecture filaire dite cœur-coquille qui permettrait de surmonter les limitations de rendements des sources bétavoltaiques existantes. L’objectif du postdoc est l’élaboration de nanofils de GaN ou d’AlGaN à fort facteur de forme en utilisant une approche top down, cette étape étant clé dans l’intégration. Ces fils seront ensuite exploités par les partenaires du projet qui réaliseront les étapes technologiques suivantes pour la fabrication de la source bétavoltaique.

Activités :

1. Développer des procédés de gravure plasma de fils d’AlGaN et de GaN à fort facteur de forme.
2. Développer des traitements humides à base de KOH pour restaurer les surfaces des fils gravés.
3. Caractériser les procédés morphologiquement (SEM, FIB-STEM, AFM), chimiquement (XPS) et optiquement (cathodoluminescence).
4. Valorisation des résultats sous forme d’articles ou de communications à des conférences.

Contexte de travail :

Ce travail sera effectué au Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (LTM), unité mixte de recherche du CNRS et de l'Université Grenoble Alpes (UGA) (UMR 5129) situé sur le site du CEA-LETI-MINATEC à Grenoble. Une centaine de personnes travaillent au LTM : 30 Chercheurs ou enseignants chercheurs, 18 Ingénieurs et Techniciens, 31 doctorants et 16 post doc. Les activités du laboratoire se positionnent à la frontière entre recherche académique amont et recherche industrielle. Le LTM a ainsi développé au fil des années plusieurs partenariats directs avec différents acteurs de l'industrie micro/nanoélectronique notamment STMicroelectronics à Crolles et Applied Materials à Santa Clara (USA). Le candidat rejoindra le pôle « PROSPECT » du LTM. Ce département vise le développement de procédés et matériaux innovants pour les dispositifs avancés de la nano/optoélectronique.

Profil recherché :

Compétences :

1. Connaissances théoriques : mécanismes de gravure par plasma, physique des semiconducteurs, III-N, sciences des matériaux.
2. Compétences techniques :
   • Procédés de gravure plasma.
   • Diagnostics plasma (spectro de masse, sonde de flux).
   • Caractérisation physicochimique des matériaux (ellipsométrie, XPS, FTIR).
   • Caractérisation optique par cathodoluminescence.
3. Compétences de valorisation des résultats par rédaction d'articles ou présentation à des conférences.
4. Autres compétences : anglais écrit/parlé, connaissance en programmation Matlab.

Contraintes et risques : travail en salle blanche.

Niveau d'études minimum requis :

• Niveau : Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents.