Optimisation des masques de lithographie par réseau de neurones à apprentissage par renforcement

Optimisation des masques de lithographie par réseau de neurones à apprentissage par renforcement

Description du poste

Sciences pour l'ingénieur

Intitulé de l'offre

Optimisation des masques de lithographie par réseau de neurones à apprentissage par renforcement

Sujet de stage

Dans un contexte en constante évolution, vous travaillerez sur l'implémentation d'une méthode permettant la création de masque de lithographie par réseaux de neurones à apprentissage par renforcement. La méthode sera d'abord appliquée au cas de la lithographie par niveau de gris (dite grayscale) puis transférée au cas du positionnement de motifs sous-résolus pour la lithographie à immersion.

En tant que stagiaire au CEA, vous aurez l'opportunité de travailler au sein d'un environnement de recherche de renommée mondiale. Nos équipes sont composées d'expert·es passionné·es et dédié·es, offrant un cadre propice à l'apprentissage et à la collaboration. Vous aurez accès à des équipements de pointe et à des ressources de recherche de premier ordre pour mener à bien vos missions.

Description du poste :

Au sein du Laboratoire de Patterning Computationnel, vous travaillerez avec une équipe d'une vingtaine de personnes.

Vous serez amené·e à travailler sur des projets stimulants et innovants.
Vous ajouterez votre touche sur des missions de type :

• Simulation des procédés de lithographie
• Programmation et entraînement de réseau de neurones à l'aide des données du CEA-Leti
• Transfert des connaissances et des outils développés au reste de l'équipe.

En fonction des attendus de votre école, les sujets pourront être discutés.

Moyens / Méthodes / Logiciels

Environnement Python, PyTorch, ferme de calculs par GPU

Profil du candidat

Qu’attendons-nous de vous?

Vous préparez un diplôme de niveau M2 dans le domaine de la microélectronique ou de la simulation de procédés industriels.

Vous êtes passionné·e par la recherche scientifique et technologique et êtes reconnu·e pour votre rigueur, votre curiosité et votre capacité à travailler en équipe.

Vous possédez des connaissances en :

• Procédés de fabrication de composants microélectroniques
• Simulation numérique
• Réseau de neurones.

Des compétences en programmation Python ainsi qu'en utilisation de PyTorch sont également appréciées.

Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles!

Vous avez encore un doute ? Nous vous proposons:

• L'opportunité de travailler au sein d'une organisation de renommée mondiale dans le domaine de la recherche scientifique,
• Un environnement unique dédié à des projets ambitieux au profit des grands enjeux sociétaux actuels,
• Une expérience à la pointe de l’innovation, comportant un fort potentiel de développement industriel,
• Des moyens expérimentaux exceptionnels et un encadrement de qualité,
• De réelles opportunités de carrière à l’issue de votre stage
• Un poste au cœur de la métropole grenobloise, facilement accessible via la mobilité douce favorisée par le CEA,
• Une participation aux transports en commun à hauteur de 85%,
• Un équilibre vie privée – vie professionnelle reconnu,
• Un restaurant d'entreprise,
• Une politique diversité et inclusion.

Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes handicapées, cet emploi est ouvert à toutes et à tous. Le CEA propose des aménagements et/ou des possibilités d'organisation pour l’inclusion des travailleurs handicapés.

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

Critères candidat

Anglais (Intermédiaire)

Diplôme préparé

Bac+5 - Diplôme École d'ingénieurs

Possibilité de poursuite en thèse

Informations générales

Entité de rattachement

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Description de l'unité

Le stage s'effectuera dans le Laboratoire de Patterning Computationnel qui encadre une partie des activités de lithographie avancée du CEA-Leti.
En nous rejoignant, vous contribuerez au développement des techniques de lithographie computationnelle et de correction de masques de lithographie avancés utilisées dans l'industrie française et européenne de demain.

• Gardanne (EC SAS CEA Leti / Mines Saint Etienne)