Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

Description du sujet de thèse

Domaine
Défis technologiques

Sujets de thèse
Développement d'un flow de data préparation de lithographique 3D pour le dessin du masque freeform

Contrat
Thèse

Description de l'offre
Avec l'avancement des technologies optoélectroniques, notamment des imageurs et AR/VR, des géométries 3D de dimensions sub-micrométriques sont plus en plus demandées par les clients industriels. Pour fabriquer ces structures 3D, la lithographie "grayscale" avec UV profond (248nm ou 193nm) est une technologie prometteuse compatible avec la production industrielle. Par contre, la maîtrise de cette technologie est complexe et nécessite un modèle de lithographie (optique + résine) avancée pour prédire le dessin du masque optique utilisé. La thèse permettra d'améliorer notre compréhension de nos modèles de lithographie grayscale et ses limites, ayant pour but d'améliorer et d'optimiser le modèle et le flow de data préparation ou masque design pour diminuer l'écart entre simulation et pattern fabriquée. Masque freeform poussera les limites de lithographie grayscale pour atteindre des pitches plus agressifs souhaités pour l'application optique et optoélectronique.

Université / école doctorale
Electronique, Electrotechnique, Automatique, Traitement du Signal (EEATS)
Université Grenoble Alpes

Localisation du sujet de thèse
Site
Grenoble

Critères candidat
Formation recommandée
M2 et école ingénieur en physique, optique, ou nanoscience

Demandeur
Disponibilité du poste
01/10/2025

Personne à contacter par le candidat
PALANCHOKE UJWOL ujwol.palanchoke@cea.fr
CEA
DRT/DPFT//LPAC
CEA-Leti
17 Av. des Martyrs, 38054 Grenoble
0438789663

Tuteur / Responsable de thèse
GOURGON Cécile cecile.gourgon@cea.fr
CNRS - Plato
DRT/LETI/DCOS/LTM
CEA-LETI, MINATEC-Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 GRENOBLE Cedex 9
FRANCE

04.38.78.98.37

En savoir plus
Site CEA
Site LTM